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NEXIV VMZ-NWL200X系列

自动晶圆(wafer)测量系统

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NEXIV VMZ-NWL200自动晶圆测量系统

VMZ-NWL200 是一款集成了影像测量系统“NEXIV”和晶圆加载器“NWL200”的自动晶圆测量系统。NEXIV 拥有先进的图像处理技术，可以自动对载具中装载的 6 英寸或 8 英寸晶圆进行高速、高精度的测量。

 

高可靠性、高效率和可操作性

NEXIV 影像测量系统广泛运用于全球半导体行业，现已与尼康久经验证的 NWL200 自动晶圆装载系统集成。

打造出的成果便是 VMZ-NWL200，这是一款具有卓越可靠性和效率的创新型测量单元。此外，专门开发的软件简化了需在工艺控制中执行的复杂操作。如今，高质量数据可以更快地反馈到生产线，从而最大限度地提高良品率。

 

 

产品亮点&核心功能
 

高可靠性

VMZ-NWL200 可以自动且稳定地执行测量，因此消除了由于操作员对读数的不同解释而导致的结果易变性。 此外，Nikon 充分利用其作为光学设备制造商的优势，以提供清晰的图像，从而准确地检测被检查对象的边缘。

  

高效率

只需点击一次，即可开始使用 VMZ-NWL200 执行检查。而且，测量效率是工业测量显微镜的三倍。该影像测量系统的效率高，可帮助实现低 COO（使用成本）。
     
 

高可操作性

由于晶圆图形显示在 GUI 上，操作员只需用鼠标点击相应的点即可指定要测量的芯片。

  

自动测量晶圆

完全自动且安全地检查载具中装载的6英寸或8英寸晶圆。
     
 

高可靠性

易于创建、运行和存储稳健性高的检测程序，并使其具有完整的可追溯性。

  

提高良品率

满足半导体行业中“质量 4.0”的要求。
     

 

设备

影像测量系统：NEXIV（VMZ-S3020 Type2、Type3、TypeTZ）

加载器：NWL200

晶圆 *1

尺寸：6、8 英寸（SEMI/JEIDA 标准）

兼容的载具

6 英寸：PA182-60MB-06XX (Entegris)

8 英寸：PA192-80M-06XX (Entegris)

产量 *2

6 分 45 秒

最低 L/S

500 线/毫米

工作环境温度

19～26℃

工作环境湿度

相对湿度小于 70%

尺寸

4125 x 3040 mm

电源电压

AC100-120V/200-240V

电源频率

50Hz/60Hz

电流消耗

7.5A/3.7A
真空 -80kPa

 

*1. 销售前需进行晶圆传输评估
*2. 25 片晶圆的传输时间，不包括测量时间

 

 

 

请联系当地销售025-85334943

 

 

设备

影像测量系统：NEXIV（VMZ-S3020 Type2、Type3、TypeTZ）

加载器：NWL200

晶圆 *1

尺寸：6、8 英寸（SEMI/JEIDA 标准）

兼容的载具

6 英寸：PA182-60MB-06XX (Entegris)

8 英寸：PA192-80M-06XX (Entegris)

产量 *2

6 分 45 秒

最低 L/S

500 线/毫米

工作环境温度

19～26℃

工作环境湿度

相对湿度小于 70%

尺寸

4125 x 3040 mm

电源电压

AC100-120V/200-240V

电源频率

50Hz/60Hz

电流消耗

7.5A/3.7A
真空 -80kPa

 

*1. 销售前需进行晶圆传输评估
*2. 25 片晶圆的传输时间，不包括测量时间

 

 

 

 

 

 

 

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